Dans tous les cas, le diamètre de la tâche focale est limité par la diffraction du système optique de focalisation. Supposons dans ce cas que c'est une lentille simple dépourvue d'abérration. La formule de la tâche de diffraction est alors donnée par :
avec

la longueur d'onde, f et D respectivement la focale et le diamètre de la lentille (plus précisément D est le diamètre du faisceau mesuré à l'arrivée sur le premier dioptre de la lentille, mais passons).
On constate donc que cette limite est diminuée pour les courtes focales, les grands diamètres et les courtes longueur d'onde.
Pour arriver à 10 nm, le calcul donne
Supposons que f = 1 mm, D = 2 mm (valeurs fictives), alors on a :
Donc il faudrait émettre dans l'extrême UV !!! Ce sont les longueurs d'onde utilisées en lithographie pour la fabrication des masques de gravure, cependant, elle nécessite des précautions et des mesures de sécurité extrêmes ! De plus, n'oublions pas que l'EUV a beaucoup de mal à se propager dans notre atmosphère (à confirmer), et donc il faudrait faire ça sous vide !
Donc pour les applications commerciales pour particulier, c'est compromis ! reste alors, si possible, à changer la taille de la lentille de focalisation.