différence CVD et RIE ?
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différence CVD et RIE ?



  1. #1
    invite100e782b

    différence CVD et RIE ?


    ------

    Bonsoir,

    Je pense que cette question est relativement spécialisée mais je me disais que quelqu'un avait surement la réponse sur le forum

    Je me demandais quelle était la différence entre le PECVD (plasma enhanced chemical vapour deposition) et le RIE (reactive Ion etching). J'ai compris que les deux systèmes étaient très similaires mais avec des conditions d'opération différentes (pression etc.) mais je ne vois pas la différence technique et au niveau instrumentation ?

    Merci par avance pour votre réponse

    -----

  2. #2
    LPFR

    Re : différence CVD et RIE ?

    Bonjour.
    Avez-vous consulté Wikipedia?
    http://en.wikipedia.org/wiki/Plasma_...our_deposition
    http://en.wikipedia.org/wiki/Reactive_ion_etching

    Dans un cas on dépose du matériel et dans l'autre on en enlève.
    Au revoir.

  3. #3
    invite100e782b

    Re : différence CVD et RIE ?

    Citation Envoyé par LPFR Voir le message
    Bonjour.
    Avez-vous consulté Wikipedia?
    http://en.wikipedia.org/wiki/Plasma_...our_deposition
    http://en.wikipedia.org/wiki/Reactive_ion_etching

    Dans un cas on dépose du matériel et dans l'autre on en enlève.
    Au revoir.
    Merci mais oui j'ai déjà consulté wikipedia, j'ai aussi lu pas mal de livres dessus... je sais très bien que le CVD dépose du matériel et que l'autre l'enlève, mais le schéma des deux machines est exactement le même, il n'y a aucune différence, alors je ne comprend pas pourquoi ils faudrait deux noms différents pour une machine qui est pratiquement la même (à un générateur près) mais dont on change juste les paramètres de déposition... ?

    Schéma RIE
    Schéma PECVD

  4. #4
    Tiluc40

    Re : différence CVD et RIE ?

    Citation Envoyé par whirlwind Voir le message
    Merci mais oui j'ai déjà consulté wikipedia, j'ai aussi lu pas mal de livres dessus... je sais très bien que le CVD dépose du matériel et que l'autre l'enlève, mais le schéma des deux machines est exactement le même, il n'y a aucune différence, alors je ne comprend pas pourquoi ils faudrait deux noms différents pour une machine qui est pratiquement la même (à un générateur près) mais dont on change juste les paramètres de déposition... ?
    Bonsoir,

    Pour creuser un trou, j'utilise une pelle.
    Pour le reboucher, j'utilise... ben une pelle aussi.

    Même "machine", mais utilisation différente.

    Dans le cas du PVD vs RIE, les produits que tu mets dedans peuvent varier. J'imagine que s'ils réagissent en s'accrochant à la surface, tu déposes. S'ils réagissent en emportant les éléments de la surface, tu graves.

  5. A voir en vidéo sur Futura
  6. #5
    invitecf9c25ff

    Re : différence CVD et RIE ?

    Bjr
    Y a t il ici une histoire de convention de signe pour le potentiel?
    On loue a combien ce gere de machine et on les achete a combien?
    Lorsqu on en met dans le labo est ce dangeureux pour le.personnel? Ce genre d appareillage necessite t il un protection speciale? Salle blanche apres? la gravitation est elle determinante pour jouir des capacites de ce genre d installation?
    Merci pour vos reponses.

  7. #6
    invite100e782b

    Re : différence CVD et RIE ?

    Citation Envoyé par Tiluc40 Voir le message
    Bonsoir,

    Pour creuser un trou, j'utilise une pelle.
    Pour le reboucher, j'utilise... ben une pelle aussi.

    Même "machine", mais utilisation différente.

    Dans le cas du PVD vs RIE, les produits que tu mets dedans peuvent varier. J'imagine que s'ils réagissent en s'accrochant à la surface, tu déposes. S'ils réagissent en emportant les éléments de la surface, tu graves.
    Merci beaucoup pour votre réponse ! Par contre le problème que j'ai c'est que justement on a deux machines dans le labo l'une est un CVD et l'autre est un RIE. Mais finalement j'ai cru comprendre que pour déposer du matériel il fallait chauffer l'échantillon, alors que pour graver il faut réduire la température et donc par conséquent les machines ont un système légèrement différent. Si je me trompe n'hésitez pas à me corriger

    Citation Envoyé par k.g.g Voir le message
    Bjr
    Y a t il ici une histoire de convention de signe pour le potentiel?
    On loue a combien ce gere de machine et on les achete a combien?
    Lorsqu on en met dans le labo est ce dangeureux pour le.personnel? Ce genre d appareillage necessite t il un protection speciale? Salle blanche apres? la gravitation est elle determinante pour jouir des capacites de ce genre d installation?
    Merci pour vos reponses.
    J'en sais rien pour le potentiel, pour un MPCVD sans les pompes et ni le controlleur de température il me semble que ça peut revenir à £200 000, pour la machine entière et avec le amu (automatic matching unit) pour le plasma, il me semble que ça peut coûter le double (les prix sont très approximatifs vu que les machines qu'on a au labo datent de quelques années et sont bricolées de partout).
    Le plasma peut être relativement dangereux et je conseillerais plutot d'acheter les machines automatisées qui ont un système de sécurité plus poussé. Le mieux serait d'appeller une des compagnies qui vendent les machines et leur poser ces questions directement vu qu'au final ça dépend de la machine que vous comptez acheter.

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