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Vaporisation sous 500 kv



  1. #1
    ventout

    Vaporisation sous 500 kv


    ------

    Bonjour !

    Un plasma est composé d'éléments chargés électriquement + et - et qui globalement s'annulent. Je m'interroge sur la possibilité de produire un plasma auquel on aurait enlevé des charges négatives et de façon à ce que la température ET la répulsion des charges positives se cumulent et afin de produire une poussée dans le vide (moteur spatial hybride, thermique et électrique).
    Si le concept est réaliste alors on pourrait concevoir un dispositif (parmi d'autres possibilités):
    un matériaux solide, un conducteur électrique, destiné à être vaporisé, est relié à la borne + d'un générateur THT de 500 ou 1000 kilovolts.
    Une diode laser à impulsion ultra-brèves et de forte puissance vaporise des couches superficielles d'atomes dudit matériaux.
    A l'instant même où une couche atomique superficielle est vaporisée, elle libère des électrons (plasma) qui, pour partie, sont absorbés par la borne + du générateur THT
    au moment de la vaporisation, l'agitation thermique propulse les atomes (ils rebondissent sur la partie solide du matériaux dont seulement les couches superficilles sont vaporisées) avec une impulsion spécifique qui dépend de la température, mais sur 180°. Mais les atomes sont chargés +, comme le matériaux encore solide, et la répulsion électrique se cumule à l'impulsion tout en améliorant la répartition sur les 180° (la poussée est davantage dans l'axe).
    Un long cône est chargé + avec la même THT : il redresse la course des atomes et favorise une augmentation de la vitesse d'éjection (la force de la répulsion des charges +, bien que décroissante, augmente la vitesse).
    Un canon à électron est ajouté pour annuler les charges en sortie de tuyère.

    Quelqu'un peut-il m'aider à estimer la vitesse d'éjection maximale des atomes avec un tel procédé ?
    Bien sûr la question préalable serait d'estimer la proportion d'électrons absorbés au moment de la vaporisation et selon la valeur de la THT (combien reste-t-il d'électrons dans le plasma, pour 100 charge positive, et selon la THT) et donc (à la louche) quelle densité de charges + par unité de volume ?
    Bien sûr, la longueur d'onde laser serait choisie selon le spectre d'absorbtion du matériaux à vaporiser.

    cordialement
    ventout

    -----

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  3. #2
    Lambda0

    Re : Vaporisation sous 500 kv

    Juste une réponse rapide :
    le problème est que la charge d'espace dûe à la non-neutralité du plasma va réduire beaucoup la densité de poussée surfacique et générer pas mal d'autres problèmes.
    C'est précisément la charge d'espace qui limite par exemple les performances du moteur ionique à grille (il s'agit dans ce cas d'électrons, et non d'ions positifs).

    A+

  4. #3
    Lambda0

    Re : Vaporisation sous 500 kv

    Bon, je vais faire quelques calculs, et peut-être arranger un peu le système pour confiner correctement le plasma, si j'ai le temps ce week-end.

    A+

  5. #4
    ventout

    Re : Vaporisation sous 500 kv

    Salut !

    Le moteur à effet Hall n'a qu'une faible durée de vie (environ deux ans) et le procédé à grille moins de 10 ans. Pour le moteur à effet Hall l'anneau extérieur de confinement s'use et pour la grille elle finit aussi par s'user. Mon idée était de faire en sorte que la seule pièce d'usure soit l'éjectat lui-même ! Ainsi la durée de vie du moteur est considérablement augmentée. L'éjectat étant la barre de matière conductrice qui doit être avancée vers la zone de vaporisation et selon la vitesse d'usure.
    Ensuite, pour ce qui est de la poussée surfacique, il me semble qu'elle dépend de plusieurs paramètres dont la quantité de matière vaporisée et "plasmifiée" et qui, pour un dispositif donné, pourrait être très variable. Il me semble très facile de l'augmenter considérablement. La valeur de la THT est déterminante 1-pour charger le plasma au moment de la "plasmification" (immédiatement après la vaporisation) 2- pour éviter autant que possible que les atomes chargés + ne percutent trop le cône de confinement lorsque la poussée surfacique est augmentée et 3-en ce qu'elle intervient dans la part "électrique" de l'impulsion finale (étant donné le faible rendement des diodes laser il est préférable que la part "thermique" de l'impulsion soit faible comparativement à la part "électrique" de l'impulsion totale).
    Enfin, quels sont ces problèmes auxquels tu penses lorsque tu dis: """et générer pas mal d'autres problèmes""". Là, ça m'intéresse beaucoup.
    A+
    ventout
    P.S.: merci pour ta réponse lambda0 (y'a pas foule sur ce sujet...).

  6. A voir en vidéo sur Futura
  7. #5
    ventout

    Re : Vaporisation sous 500 kv

    Salut !

    Le graphite serait peut-être un bon candidat: assez bon conducteur électrique et mauvais conducteur thermique.
    Mais sa température de fusion est très élevée (3550°C), celle d'ébulition est de 4827°C (!) et j'ignore son énergie de première ionisation. Masse atomique = 12

    Le césium est un métal ayant une très faible énergie d'ionisation, fusion à seulement 28,4°C, ébulition à 671°C et ionisé vers 1500°C
    Masse atomique = 132,9.

    Je m'interroge aussi au sujet de l'importance de la masse atomique sur la valeur de l'impulsion totale (et avec la première ionisation seulement). Cette question va avec cette autre qui est très intéressante et pour laquelle je me sens démuni: est-il concevable d'augmenter la valeur de l'impulsion "électrique" avec une longue tuyère et jusqu'à quelle limite ? Force, temps et distance : tout un programme...

    A+
    ventout

  8. #6
    Lambda0

    Re : Vaporisation sous 500 kv

    salut ventout

    Bah ouai, c'est de la physique sale du monde réel et de la techno.
    Faut aimer mettre les mains dans le cambouis et dans les trucs tarabiscotés où les choses sont à moitié définies, et tu aurais peut-être du poster dans la rubrique Technologie.

    Pour ce qui est du principe de la vaporisation par le flux d'une diode laser, celà me semble assez hasardeux. Ca marchera, mais pour ce qui est du rendement...
    S'il n'y a pas de réaction chimique qui libère de l'énergie et si l'énergie cinétique des particules expulsées provient exclusivement de l'impulsion laser, le rendement du système est désastreux : la diode ne convertit que quelques % de la puissance électrique en puissance optique. Et étant donné les pertes diverses, moins de 1% de la puissance électrique initiale servira à produire effectivement de la poussée.
    Pour que ce soit jouable, il faut donc que tu trouves une référence de diode laser avec un rendement au moins égal à 20%, ou une indication qu'il est possible d'atteindre des rendements importants, mais celà ne m'inspire pas beaucoup.

    Pour ce qui est de redresser la course des ions, je serais curieux de voir ta configuration géométrique et surtout de champ électrique.
    Peux-tu faire un schéma ?
    Sinon, une méthode beaucoup plus simple serait de placer la surface vaporisée au foyer d'une parabole.

    Pour ce qui est de la poussée surfacique, elle devrait être essentiellement limitée par la charge d'espace, la répulsion mutuelle des ions. A titre indicatif, la poussée surfacique d'un moteur ionique à grille (ions positifs) est 10 fois inférieure à celle d'un moteur Hall (plasma neutre), et de l'ordre de 1N/m².

    A+

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  10. #7
    ventout

    Re : Vaporisation sous 500 kv

    Salut !

    Mais "diode laser" ce n'est qu'un exemple concret de dispositif qui permet d'arracher des atomes et de les ioniser. On ne va pas se l'imposer s'il existe de meilleurs moyens... Et des lasers avec des rendements de 20% je pense que cela doit exister.
    Mais surtout, j'ai distingué entre l'énergie de vaporisation et l'énergie d'ionisation pour la part thermique ET la part électrique... C'est-à-dire que même si le rendement de la part "thermique" est faible, cela pourrait être de faible importance si la part "électrique" de l'impulsion est IMPORTANTE. C'est ça la question intéressante: avec du césium facile à ioniser... la part thermique est petite... et ensuite la part électrique, SI elle peut être relativement TRES importante alors le rendement total serait très bon.

    Pour ce qui est de la poussée surfacique, je répéte:
    le dispositif permet, gràce à la partie thermique, d'augmenter le débit d'émission des ions et donc la densité des ions. En augmentant cette densité la vitesse d'éjection est augmentée... et en conséquence, la poussée surfacique aussi.
    A+
    ventout

  11. #8
    L'Hérétique

    Re : Vaporisation sous 500 kv

    Salut,
    Une idée peut-être interessante, envisager un préchauffage de la partie à vaporiser, celà te permettrait d'utiliser le lazer comme complément, et par là employer un système moins gourmand en énergie.
    A+

  12. #9
    ventout

    Re : Vaporisation sous 500 kv

    Salut L'Hérétique !

    Tout à fait. D'ailleurs on pourrait même envisager d'atteindre la température d'ionisation pour du césium et en focalisant le rayonnement avec une simple parabole solaire... Tant qu'on n'a pas encore arrêté la définition de l'engin, toutes les options restent envisageables.

    Citation Envoyé par Lambda0
    Sinon, une méthode beaucoup plus simple serait de placer la surface vaporisée au foyer d'une parabole.
    Pourquoi "sinon" ? C'est exactement ce que j'ai à l'esprit depuis le tout début. On a un matériaux qui se présente sous forme de barres de section circulaire, barres qui sont vaporisées par une extrémité et au foyer d'une tuyère (dont la forme pourrait être très proche de celles qui équipent les moteurs qui brulent les ergols).

    A+
    ventout

  13. #10
    krueger

    Wink Re : Vaporisation sous 500 kv

    Sur le papier cela peut paraitre tres joli mais .... les rendements des plasmas crées par lasers sont plutôt mauvais :
    même avec des lasers femtosecondes (imulsions ultra brèves) la dissociation de la matière n'est pas bien homogène (assez grnde distribution de tailles des particules vaporisées)
    De plus même plasmas sont dits froids (leur temperature est globalement la même que le gaz dans lequel ils sont formés) pour lesquels se sont principalement les électrons qui sont très énergetiques et non les ions ...
    Bref mieux vaut trouver un autre moyen de créer son plasma.

  14. #11
    Lambda0

    Re : Vaporisation sous 500 kv

    Salut ventout

    Il existe bien déjà des systèmes de propulsion dans lesquels on vaporise un carburant solide. C'est utilisé pour le maintien d'attitude des satellites, et les poussées obtenues sont très faibles.

    Par contre, je ne comprend absolument pas comment tu accéléres les particules dans ton système, c'est pourquoi j'étais intéressé par un schéma de principe (juste un schéma fait sous Paint) représentant en particulier les lignes de champ électrique.
    A partir du moment où tu as des éléments portés à des potentiels, il y a un champ électrique, et la force accélérant les particules est orientée le long des lignes de champ.
    Si on augmente le débit de vaporisation, les particules intéragissent d'autant plus entre elles et le mouvement devient aléatoire, les forces de répulsion des ions l'emportant sur la force du champ électrique imposé.

    Je pense qu'avant de se poser des questions sur le choix du matériau, la méthode de vaporisation, etc., il faudrait être clair sur le schéma de principe de ce qui produit effectivement la poussée.
    Juste un petit schéma, pour que je comprenne ton idée...

    A+

  15. #12
    ventout

    Re : Vaporisation sous 500 kv

    Salut lambda0 !

    Dans ce dispositif, on n'utilise pas le - pour attirer les ions +. Tout le dispositif est noyé dans du + et seulement, uniquement, du +. L'idée est qu'on se limite à l'utilisation de la force de répulsion des charges de même signe. Il ne s'agit pas d'attirer les ions + avec un -mais d'utiliser la répulsion des ions + entre eux.
    Dans le cas de la combustion de deux ergols, la force qui accélère les particules est la chaleur: toutes les particules se repoussent les unes les autres et à cause de l'agitation thermique et des chocs entre particules. Ici, de même, les ions se repoussent les uns les autres par répulsion électrique et non pas par agitation thermique (en fait on cummulera les deux). Pour le dessin, il suffit, par exemple, de se représenter une longue tuyère comme celle du moteur O2/H2 "vinci" (que tu as déjà vu dans les liens précédents) et de penser que les barres solides sont vaporisées et plasmifiées à l'entrée de la tuyère (là où les ergols sont habituellement injectés) et que la répartition ou plutôt la densité des ions + diminue avec la distance du lieu de vaporisation et de plasmification. Cette baisse de densité avec la distance se représente exactement comme les courbes des température des gaz chauds à la sortie des tuyères. Ces courbes de densité d'ions peuvent être, si l'on veut, assimilables à des lignes de champ électrique en ce qu'elles représentent des différences d'intensité de la charge d'espace (mais sans charges négatives; les charges négatives sont rejetées avec un canon à électron loin derrière la tuyère et ne servent qu'à neutraliser).
    Donc plus besoin de dessin je pense.
    A+
    ventout

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  17. #13
    Lambda0

    Re : Vaporisation sous 500 kv

    Rep ventout

    Ah, ok. Je comprends mieux.
    Donc, a priori, l'énergie cinétique additionnelle des ions après vaporisation provient de la conversion d'énergie potentielle d'interaction électrostatique.
    Il faut que je réfléchisse un peu à la façon dont se transmet la poussée.

    A+

  18. #14
    ventout

    Re : Vaporisation sous 500 kv

    Salut !

    Citation Envoyé par Lambda0
    Donc, a priori, l'énergie cinétique additionnelle des ions après vaporisation provient de la conversion d'énergie potentielle d'interaction électrostatique.
    Il faut que je réfléchisse un peu à la façon dont se transmet la poussée.
    Tu dis "additionnelle" ?
    Oui en ce qu'elle vient après
    mais non en ce que cette énergie cinétique "additionnelle" pourrait être 100 ou 1000 fois supérieure à l'énergie cinétique première (celle qui vient de la part thermique).

    Je ne comprends pas bien ce que tu entends par "conversion d'énergie potentielle d'interraction électrostatique".
    Dans mon esprit il s'agit plutôt d'une conversion en énergie cinétique de la force de répulsion des charges + entre elles-mêmes.
    Cette force de répulsion dépend du nombre de charges + par unité de volume à l'instant même où les ions sont formés et libérés. Il est évident que deux charges de même signe se repousseront avec une force d'autant plus grande qu'elles sont plus proches.
    La question que je me pose est celle de savoir si en allongeant le parcours pendant lequel les charges se repoussent on atteint au final une vitesse plus grande ou pas. C'est-à-dire: en allongeant la tuyère (qui est chargée + avec la THT) les ions + vont se repousser moins brutalement parce qu'ils vont se repousser plus longtemps. Est-ce qu'au final la vitesse sera plus grande en allongeant la tuyère ?
    Ensuite, puisqu'on peut faire varier la quantité d'ions émis par unité de temps et pour une surface donnée ou un volume donné, on peut donc faire varier la poussée surfacique.
    Ici on n'a pas besoin de confinement magnétique comme pour la propulsion vasimir. On a un pseudo-confinement dans la tuyère chargée avec la THT, incomparablement plus aisé à réaliser. On n'a pas non plus de pièces d'usure comme dans le moteur à effet Hall ou le moteur ionique à grille.
    Pour ce qui est du rendement total, il dépend des rendements de la part thermique et de la part électrique mais D'ABORD du rapport entre la part thermique et la part électrique.

    Pour réduire la part thermique:
    -peut-être qu'une THT permet de produire une première ionisation avec des températures plus faibles (en comparaison avec absence de THT).
    -existe-t-il des lasers de puissance ayant des rendements de 20%?
    -pour produire l'ionisation, peut-on générer, à l'image des lasers femtosecondes, des impulsions de micro-ondes (et donc avec un bien meilleur rendement que les lasers) ?
    voilà quelques questions qui, parmi d'autres, mériteraient des réponses et afin de pouvoir estimer si oui ou non ce procédé permet d'espérer de bons rendements (en plus de ses autres avantages: facilité de conception et de réalisation, pas de pièce d'usure autre que l'éjectat et donc très grande durée de vie, poussée surfacique variable, facilité d'atteindre de très grandes puissances si source électrique ok, transport et stockage aisé de l'éjectat).

    A+
    ventout

  19. #15
    Lambda0

    Re : Vaporisation sous 500 kv

    Citation Envoyé par ventout
    Je ne comprends pas bien ce que tu entends par "conversion d'énergie potentielle d'interraction électrostatique".
    Dans mon esprit il s'agit plutôt d'une conversion en énergie cinétique de la force de répulsion des charges + entre elles-mêmes.
    Cette force de répulsion dépend du nombre de charges + par unité de volume à l'instant même où les ions sont formés et libérés. Il est évident que deux charges de même signe se repousseront avec une force d'autant plus grande qu'elles sont plus proches.
    Salut

    (Réponse très rapide, je suis pas très dispo cette semaine.)

    Mais c'est bien celà. Je le disais seulement de façon plus rigoureuse. La force de répulsion dérive bien de l'énergie potentielle d'interaction électrostatique.
    Si tu veux faire un calcul, tu considères une sphère chargée, donnée par son rayon et la densité de charges.
    Le champ électrique en tout point est donné par : divE=rho/e0
    La densité d'énergie électrostatique : U=E²/e0, à intégrer puisque E dépend de la distance au centre.
    Et tu regardes ce que ça donnerait si tout ou partie de cette énergie était convertie en énergie cinétique, ce qui correspond au cas où toutes les particules sont dispersées à l'infini.
    On peut facilement obtenir des valeurs énormes en théorie.
    Maintenant, il faut voir si la situation initiale est techniquement réalisable, et d'une façon ou d'une autre il faut dépenser de l'énergie pour virer les électrons.
    Je ne suis même pas convaincu qu'il ne faut pas en dépenser autant que ce qu'on peut récupérer ensuite à partir de la force de répulsion des ions positifs restant...
    A mon avis, il faut d'abord bien réfléchir pour voir si ce n'est pas un serpent qui se mord la queue.

    Pour ce qui est de la vaporisation, je ne crois pas qu'un laser soit la solution la plus efficace dans ce cas.
    Il existe bien des lasers avec des rendements élevés, mais on a pas trop le choix sur les longueurs d'onde (laser CO2 par exemple) et il y a pas mal de contraintes.
    Mais de toute façon, pour la vaporisation, il existe des solutions, et on peut voir ça après.

    Il vaut mieux dans un premier temps essayer de comprendre le fonctionnement du moteur, et en particulier comment s'exerce réellement la poussée. On peut toujours écrire la conservation globale de la quantité de mouvement pour en déduire qu'une force s'exerce, mais celà ne dit pas où s'applique cette force ni ce qui détermine le rendement électrique.
    Tu n'échapperas pas à un schéma, avec des lignes de champ, des forces, etc.

    A+
    Dernière modification par Lambda0 ; 28/02/2005 à 08h11.

  20. #16
    ventout

    Re : Vaporisation sous 500 kv

    Bonjour,

    Tous les moteurs ioniques... éjectent des ions... donc si mon dispositif avait un rendement très mauvais parce qu'il éjecte des ions... alors TOUS les moteurs ioniques auraient un mauvais rendement. Si mon dispositif souffre d'un mauvais rendement, ce sera donc pour une autre raison.
    Ensuite, pour les "lignes de champ", on considèrera qu'il n'y en a simplement pas... et puisque les ions se repoussent exactement selon le modèle thermique... La chaleur du gaz chaud éjecté dans une tuyère est responsable de ce que toutes les molécules du gaz après combustion se repoussent les unes des autres. Ici, dans le principe, c'est identique: tous les atomes se repoussent entre eux... sauf qu'il s'agit de répulsion électrique au lieu de chaleur. Donc on se représentera ce qui se produit dans mon dispositif exactement comme s'il s'agissait de chaleur et non pas d'ions. On se représente l'éjection d'un flux d'ions dont la densité et la vitesse évolueront à l'image de ce qui se passe dans un divergent de moteur fusée. A la sortie on ajoute un neutraliseur de charges, un canon à électron.

    Donc voilà le dispositif que je propose:
    Un réservoir est rempli de césium. Des pastilles radioactives le maintiennent à une température d'environ 750 à 800°C, liquide et sous pression (température d'ébulition = 671,4°).
    Le césium est conduit dans un tube très fin et chauffé par d'autres pastilles radioactives à une température de plus de 2000°c.
    A cette température, chaque atome de césium aura libéré un électron. La THT permet d'absorber ces électrons et on se retrouve avec des ions césium+ qui se repoussent les uns les autres...
    Le fin tube s'ouvre en forme de tuyère, tuyère qui est chargée + par la THT. En se repoussant entre eux ET de la tuyère, les ions césium+ prennent de la vitesse... et le canon à électron annule les charges un peu plus loin.
    Non seulement le principe est tout simple mais je le trouve tout à fait réaliste et intéressant. A vue de nez, je pense même qu'un tel dispositif, avec quelques améliorations, pourrait être très supérieur à d'autres qui sont pourtant étudiés en profondeur...
    Reste à définir en quoi, précisément, il serait "supérieur"...
    A ce sujet, j'ai mon idée...
    A+
    ventout

  21. #17
    Lambda0

    Re : Vaporisation sous 500 kv

    salut ventout !

    Voici quelques réflexions pour avancer un peu...

    D'accord sur le principe général. Ca se précise. Mais on ne peut pas vraiment comprendre comment ça marche sans se représenter la configuration de champ électrique : c'est quand même bien celà qui accélère les particules, même si le champ est généré par les ions eux-mêmes.
    D'autre part, tu dis qu'une surface portée à THT absorbe les électrons.
    Qu'est-ce que celà veut dire ?
    Pour que les électrons aillent là où tu veux, ils doivent être accélérés, le long de lignes de champ électrique qui aboutissent à ta surface, qu'on appellera "collecteur" par exemple. Plus précisément, les électrons sont accélérés dans la direction opposée au champ.
    Ce champ électrique est créé par une différence de potentiel. Avec quelle surface ? A priori, les électrons sont bien au chaud dans le plasma et n'ont aucune raison d'en sortir si on n'applique pas un champ extérieur.

    A mon avis, pour raisonner, il faut un schéma, avec une représentation des différents potentiels, et qualitativement, lles lignes de champ. Je ne vois pas du tout comment tu fais pour extraire les électrons parce que je ne vois pas comment tu crées les lignes de champs qui aboutissent au collecteur.
    D'autre part, ces électrons, une fois extraits, où vont-ils ?
    Pour comprendre le fonctionnement, il faut donc aussi représenter, très schématiquement, le circuit externe, avec les f.e.m (ne pas se planter dans les polarités !). Pour conserver la neutralité de l'ensemble, ce circuit est nécessairement connecté au canon à électron qui neutralise la charge des ions éjectés.

    Il y a donc quand même pas mal de choses à voir, avant de pouvoir dire si c'est intéressant ou non.

    Affaire à suivre...

    A+

  22. #18
    ventout

    Re : Vaporisation sous 500 kv

    Salut

    Citation Envoyé par Lambda0
    Mais on ne peut pas vraiment comprendre comment ça marche sans se représenter la configuration de champ électrique : c'est quand même bien celà qui accélère les particules, même si le champ est généré par les ions eux-mêmes.
    Diable !
    Moi qui pensais m'être exprimé clairement.

    Citation Envoyé par Lambda0
    D'autre part, tu dis qu'une surface portée à THT absorbe les électrons. Qu'est-ce que celà veut dire ?
    Chauffé à 2000°C, on se retrouve avec un plasma de césium, un mélande d'ions césium+ et d'électrons. Mais on fait passer ce plasma au contact d'une surface chargée + avec une THT de 1000KV... Que se passe-t-il alors?
    La plupart des électrons sont absorbés par la bone + de la THT et donc les ions césium+ se retrouvent sans électrons. On a alors un plasma chargé + et donc les ions césium+ se repoussent non plus seulement à cause de la température de 2000° mais aussi parce qu'il n'y a plus d'électrons et que les ions césium+ se repoussent entre eux (cf. image de l'agitation thermique).

    Citation Envoyé par Lambda0
    Pour que les électrons aillent là où tu veux, ils doivent être accélérés, le long de lignes de champ électrique qui aboutissent à ta surface, qu'on appellera "collecteur" par exemple.
    Moi pas comprendre.
    Toi mieux écouter Boris.
    Tuyère être reliée à borne + de la THT.
    Alors ions césium+ éviter approcher tuyère.
    Ions césium+ être repoussés vers espaces interstélaires.

    Citation Envoyé par Lambda0
    Plus précisément, les électrons sont accélérés dans la direction opposée au champ..
    Moi pas ici utiliser concept "champ électrique".
    Ion césium+ pas rechercher électron
    Ions césium+ fuir ions césium+
    Electrons venir ensuite mais seulement pour annuler charges électriques.
    Pas utiliser concept champ électrique pour bonne compréhension du procédé, a dit, Boris.

    Citation Envoyé par Lambda0
    ne pas se planter dans les polarités !
    Boris avoir déjà compris longtemps avant différence entre + et -

    Citation Envoyé par Lambda0
    Il y a donc quand même pas mal de choses à voir, avant de pouvoir dire si c'est intéressant ou non.
    Boris savoir déjà procédé être intéressant. Boris déjà réfléchir prototype.
    A+
    Boris

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  24. #19
    ventout

    Re : Vaporisation sous 500 kv

    Précision:

    Les électrons mélangés aux atomes de césium+ sont animés de vitesses significatives étant donné la forte température (2000°c).
    Ce plasma passe dans un tube qui est reliée à la borne + d'une THT de 1000kv. Il n'y a pas de champ électrique entre une borne plus et une borne moins pour capter ces électrons !!! Il y a SEULEMENT une borne + pour capter ces électrons. Je n'ai jamais parlé de borne - parce qu'il n'y en a pas. Ce qui fait office de borne - c'est le canon à électrons qui neutralise les charges un mètre plus loin à la sortie de la tuyère.
    Lorsque le plasma de césium passe dans le petit tube, c'est ce tube qui fait office de "collecteur" d'électrons et simplement parce qu'il est branché à la borne + de la THT. Si cette Tension est vraiment forte alors elle absorbera l'immense majorité des électrons du plasma: les électrons seront attirés par le tube-collecteur chargé+ pendant que les atomes de césium+ seront repoussés. Les électrons ne resteront pas "au chaud" mélangés aux atomes de césium,
    1-parce que la THT porte bien son nom
    2-parce que le tube est fin
    3-parce que l'agitation thermique aide à cette séparation des charges électriques
    4-parce que le césium a déja tendance à facilement se détacher de l'un de ses électrons: cf. les piles thermoioniques et la distance de 1mm entre les plaques et donc un tube de 2mm de diamètre, ce ne sera pas trop...
    C'est tout simple.
    A+
    ventout

  25. #20
    ventout

    Re : Vaporisation sous 500 kv

    Bonjour,

    Une remarque:
    puisque l'énergie électrique requise l'est pour accélérer l'éjectat, on n'a pas besoin de cette source d'énergie électrique lorsqu'on n'a plus de matière à éjecter... Ainsi donc, il serait logique d'envisager que l'éjectat soit aussi le fluide de travail pour produire au moins une partie de l'énergie électrique!!!
    Ce concept présenterait de sérieux avantages de simplicité et de facilité pour mise en oeuvre. Voici donc une nouvelle description du dispositif:
    Un coeur radioactif chauffe des réservoirs de césium sous pression à quelques dizaines de bars.
    Le césium s'engage de lui-même dans un long circuit MHD réchauffé par une ou plusieurs autres sources radioactives. Nul besoin de pompe puisque le circuit du césium est ouvert (il va ensuite en direction de la tuyère). Dans cette section MHD nous produisons une partie (au moins) de l'énergie électrique qui sera utilisée par la THT.
    Le césium est réchauffé à nouveau par une autre source radioactive
    vers 2000°C où le césium est totalement porté à l'état de plasma.
    Il entre ensuite dans une chambre intermédiaire qui isole électriquement la partie suivante (qui est connectée à la THT) de la partie précédente du dispositif.
    Puis le plasma passe entre deux plaques connectées à la THT, deux plaques face à face et très rapprochées.
    Entre ces plaques, tous les électrons mobiles sont absorbés et ne reste plus que du césium+ qui est éjecté dans une tuyère.
    On aurait donc différentes sources de chaleur (nucléaire) qui donneraient: la pression de départ, l'énergie électrique de la MHD, et une impulsion thermique avant que la THT n'ajoute l'impulsion électrique, le tout sans pompe et dans un circuit linéaire.
    A+
    ventout

  26. #21
    afrold

    Re : Vaporisation sous 500 kv

    slt .
    excuse si je reviens sur un suijet peut etre deja etudié .
    quelle est la difference entre un moteur plasmique et un moteur ionique .
    l'un d'entre pourait il m'envoyer le schema d'un neutraliseur d'ions; j'en ai besoin pour mon tipe. merci

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