Bonjour tout le monde,
Je vous propose une discussion purement théorique : on se place en mode DC, il n'y a pas de fuite AC, les interfaces sont propres etc ...
J'essaye de comprendre le mécanisme de claquage observé sur ce dispositif. La couche "gap" est de l'air ou du vide que j'appelle low k (constante diélectrique).
La zone verte est en HfO2 (high k). D'après les valeurs de tensions relevées, les régions d'HfO2 ne peuvent pas claquer car le champ électrique n'est pas assez fort. Pour la zone gap si l'on prend de l'air, le champ électrique est suffisament fort pour provoquer un claquage (environ 1000 fois supérieur).
Problème : d'ou viennent les charges qui font claqué le gap ? J'ai plusieurs pistes mais aucune preuve :
Charges d'interfaces HfO2/air ?
Injection et transport d'électrons par mécanismes de Poole-Frenkel dans les défauts du HfO2 même avec des tensions 10 fois inférieures ? Peut être mais avec quelle constante de temps ? Le claquage s'observe assez rapidement, pas après des mois ou années.
Quelqu'un a-t-il des hypothèses ? Plus d'informations sur les structures diélectriques high k / low k / high k ?
Merci pour votre aide !
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