Bonjour,

J'aimerais savoir dans quel cas il est préférable d'utiliser l'analyse par spectroscopie photoélectronique à rayon X; et dans quel cas il vaut mieux préférer la spectroscopie de masse des ions secondaires par mesure du temps de vol.

J'ai lu que le tof SIMS était destructif et que la profondeur d'analyse était moins importante que pour le XPS. Mais les deux techniques permettent de donner la composition chimique de la surface caractérisé alors comment choisir?

Merci,

Nicolas