Bonjour,
Je souhaite avoir quelques précisions quant à la meilleure méthode ICP entre ICP-MS (spectro de masse) et ICP-OES (optique). Je crois que l'une (ICP-MS) est très sensible et donc très adaptée pour analyser les éléments (métallique notamment) à l'état de trace dans l'échantillon. Or, quand les éléments les plus importants que l'on souhaite analyser sont à hauteur de 10% à 35%, on ne parle plus de "trace". Dans ce cas, l'ICP-MS est-elle toujours la méthode la plus précise, ou faut-il lui préférer l'ICP-OES?
Merci bien
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