Bonsoir
Je suis entrain d'étudier des publi de croissance de nanofils de silicium par VLS , et ils disent que les petites goutes d'Au vont diffuser pour rejoindre les grandes pour minimiser l'energie de surface (murissement d'ostwald).Je voudrais savoir à quel moment le murissement s'arrête et donc les petites goutes ne vont plus migrer vers les plus grande parce que pour moi tant qu'il y a l'energie thermique necessaire pour que la diffusion se fasse il n'y a aucune raison pour que le processus d'ostwald s'arrête.
Merci de me corriger ou de m'éclairer
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