Comment sont gravés aujourd'hui les microprocesseurs?

[ecolami]

Bonjour,
Pendant longtemps les microprocesseurs ont été gravés par des techniques photographiques ou une résine photosensible était insolée et et les parties non insolées étaient dissoutes. Cela permettait de former des pistes couvertes de résine de plus en plus fine. La piste de résine devait résister aux agents de gravure.
Mais aujourd'hui en ayant atteint une échelle nanométrique il n'est plus possible de procéder ainsi.
Alors quelle est la technique actuelle qui permet un intégration a l'échelle nanométrique a très haute densité de composants? Je n'ai rien trouvé sur internet.
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[coussin]

J'ai trouvé cette page : https://mybroadband.co.za/news/hardw...nd-to-cpu.html

Ils parlent de photolithographie. Ce n'est pas clair pour moi qu'est-ce qui a exactement une taille de 22nm dans tout ce processus. Ce n'est pas clair non plus comment obtenir des détails de 22nm avec de la photolithographie... Ce sont des lasers XUV qui ont des longueurs d'onde de quelques dizaines de nm?

[invite6dffde4c]

Re.
Il fut une époque dans laquelle on parlait (et je crois même essayaient) des faisceaux électroniques (avec la même technique que le microscopes électroniques à balayage).
https://fr.wikipedia.org/wiki/Lithog...%C3%A9lectrons
Je ne connais pas les techniques actuelles.
A+

[Resartus]

Bonjour,
Pour l'instant, c'est toujours la photolithographie, mais avec des tas d'améliorations, qui permettent d'arriver à faire des gravures de 20 nm, avec les lasers UV actuels dont la longueur d'onde dans le vide est de 200 nm....
Une méthode est celle du double motif. J'ai trouvé cet article qui explicite un peu
http://www.tomshardware.fr/articles/...e,2-711-8.html

Mais les progrès futurs sont basés sur l'usage de lasers en UV extrême (longueur d'onde dans le vide de l'ordre des 20 nm), ce qui permettra de descendre à des gravures inférieures à qq nm).
Mais il n'y a pas que la gravure : la quantité d'atomes deviendra très faible (on passerait à quelques dizaines), et des tas d'autres phénomènes vont apparaitre

[A voir en vidéo sur Futura]

[ecolami]

Bonjour,
Le problème, à ces échelles nanométriques, n'est pas la source lumineuse. C'est comment peut on avoir des pistes de résine assez résistantes pour supporter la gravure?
Avec les techniques d'impression laser on sait guider avec une extrême précision un faisceau mais s'il faut "écrire" tous les microprocesseurs un par un cela devient , me semble-t-il, impossible parce que trop long.
L'écriture par balayage laser serait possible si, en fonctionnant dans un gaz (dopant) spécial (genre Hydrogène Arsénié, arsine), il était possible que de l'arsenic soit fixé là ou le laser a excité la surface.

[Resartus]

Bonjour,
Ce document montre des comparatifs (à partir de la page 12)
https://www.euvlitho.com/2012/P18.pdf

Des produits comme le HSQ (https://en.wikipedia.org/wiki/Hydrogen_silsesquioxane) ou l'inpria XE15IB devraient suffire pour l'EUV. Ensuite, ce sera sans doute plus dur....

[XK150]

Bonjour ,

Pour la gravure 5 nm , ne reste envisagé pour l'instant que l'ultra violet " extrême " ou " profond " , à la limite des X .
Cette série de petits articles résument bien la situation , voir le sommaire à gauche :

http://www.journaldunet.com/solution...-puces/3.shtml.

Le coût d'une usine est astronomique et se compte en milliards de dollars ...

http://www.tomshardware.fr/articles/...m,1-62143.html

[XK150]

Re ,

Finalement , la technologie EUV est bien détaillée sur le Wiki anglais :

https://en.wikipedia.org/wiki/Extrem...et_lithography

[ecolami]

Bonjour,
Merci pour ces informations! Je suis chimiste et je suis émerveillé de voir qu'il est possible de faire des résines photosensibles pour des résolutions nanométrique.