Bonjour ,
Voila j'ai du ma à comprendre les étapes de fabrications de la neuropuces c'est pour cela je souhaiterai si c'est possible que quelqu'un m'explique de manière un peu moins difficile c'est étapes de fabrications.
La neuropuce consiste en un substrat de silicium sur lequel vont être créés des puits au fond desquels sont installée une électrode d’or platinisée.
Le substrat est une plaque de silicium de 500 µm d’épaisseur de type n. Sur une face, du wafer, il y a une couche mince de 4 µm de silicium dopé fortement au Bohr suivie d’une autre couche de silicium dopé n.
- On effectue d’abord un dépôt LPCVD (Low Pressure Chemical Vapor Deposition) de nitrure de silicium sur la surface de silicium (1) en gravant des fenêtres de 4*8 mm2 laissant apparaître le silicium.
-Par un procédé de gravure humide avec une solution de pyrocatechol, le silicium est attaqué jusqu’à atteindre la couche de silicium dopé au bohr qui n’est pas attaquée par la solution (2).
-La couche de silicium dopée au bohr est enlevée par un procédé de gravure humide sélective. Cette étape permet de créer une fine membrane au fond de chaque puits. On dépose une couche d’oxyde dans le fond du puit créé (0,5 µm) recouverte d’une couche de silicium dopé n avec une fenêtre (4 et 5) -Une ouverture est préparée sur l’autre face du substrat pour insérer une électrode d’or (insertion de l’électrode sur (6).
-Par une procédé de gravure humide, on attaque le silicium pour créer un puit dans la membrane (7).
-La couche d’oxyde est enlevée par une gravure à l’acide fluorhydrique (8) ; la couche de nitrure recouvrant l’électrode est enlevé par la même occasion.
-Enfin, l’électrode d’or est platinisée par électrolyse (9).
Merci
-----