Cu2SO4 (1M, Ph 10,5) et les résines

[invite80313213]

bonjour,

Je fais un dépôt électrolytique sur la face arrière d'une puce d'électronique de puissance. mais d'abord, il me faut protéger d'autres parties de la puce contre l'attaque chimique du bain électrolytique très basique ( Cu2SO4 1M, PH 10.5). Je cherche alors un matériau de protection (photoresist, polymère) qui peut supporter la puce et s'enlève facilement.

si vous être preneur dans ce domaine, je vous prie de m'en reseigner.

Merci d'avance

NVH
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[moco]

Réfléchis à ce que tu dis.
Cu₂SO₄ n'existe pas. CuSO₄ existe lui, et c'est le seul composé existant contenant du cuivre et le ions sulfate. Mais sa solution est acide. Elle n'est donc pas basique. Si on cherche à la rendre basique en ajoutant une base, il se forme un dépôt de Cu(OH)₂ insoluble. Et donc ce ne sera plus une solution.
Alors quelle est la véritable composition de ta solution ?

[invite15e03428]

la silice ne convient elle pas pour la protection??