Bonjour à tous,
J'ai voudrais déposer du MOS2 sur un substrat "ITO" par électrodéposition.
J'ai une cellule électrochimique à trois electrodes : la contre electrode est en platine, electrode de reference Ag/AgCl
Pour cela j'ai compte utiliser l'electrolyte suivant :
- un précurseur de mos2 qui est le suivant (NH4)2MOS4
- et KCL
- de l'eau distillé
D'apres la bibliographie à la cathode il doit y avoir une reduction et la demi equation et la suivante : MoS4(2-) + 2e- + 4H+ = MoS2 + 2H2S
Mais je ne sais la demi equation qui doit avoir lieu à l'anode ?
Si vous pourriez m'aider je vous serai tres reconnaissant. Merci d'avance
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