Bonjour,
J'etudie actuellement les dielectriques et j'ai un petit probleme que je ne parviens pas a resoudre:
Dans un dielectrique, on a pour l'indice de refraction l'expression (qui provient du modele de l'electron elastiquement lie):
n2=1+ωp2/(ω02-Ne2/(3ε0m)- ω2) ,
ou N est le nombre d'electrons de valence du materiau, m est la masse de l'electron , ω est la pulsation du rayonnement incident et
ωp2=Ne2/(ε0m) (pulsation dite de plasma).
Le terme Ne2/(3ε0m) au denominateur provient du fait que l'on considere le champ local de lorentz a l'interieur du materiau (correction de lorentz)
Probleme, pour GaAs, si je prend ω0=1016 rd/s , N=4*4.42*1028 electrons/m3 (valeurs communement prises), je touve pour des frequences pas trop elevees un n2 negatif ou en tout cas proche de 0 alors que les tables indiquent pour GaAs n=3.49!!
Ainsi, le fait de tenir compte du champ local de lorentz conduit a des resultats absurdes alors qu'il devrait a priori ameliorer les choses non, surtout dans un semiconducteur??
Ou est l'erreur????
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