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Dépôt de film mince sous UHV



  1. #1
    lnmcbmn

    Dépôt de film mince sous UHV


    ------

    Bonjour

    J'ai eu un problème essentiel pour le dépôt de catalyseur cobalt. Les dernières conditions de dépôt de cobalt:
    I=1,93 A U=1000V
    Emission = 12 mA Flux = 16 nA
    Température: 28°C Vide = 4x10^-8 mBar

    Dans notre système (évaporation sous UHV - EFM 3), je ne peux que fixer 3 paramètres (I, U et émission). La valeur de flux change à chaque fois où on fait le dépôt.

    On vient de changer le barreau métallique (la source) parce que le flux est trop faible. Avant, cette valeur atteint à 120 nA. J'ai tout fait pour fixer les 3 paramètres dans tous les dépôts de film mince. Mais le flux est incontrôlable. Voilà, le barreau usé est tout court, on a changé par un autre tout neuf.

    J'ai fait le rodage pour le nouveau barreau. Voici les valeurs:
    I=1,93 A U=1000V
    Emission = 17,5 mA Flux = 368 nA
    Température: 28°C Vide = 4x10^-8 mBar

    Les valeurs de l'émission et flux sont énormes. On ne peut plus baisser le barreau afin de baisser l'émission. Il est tout bas par rapport à la porte de l'évaporateur. Avant, j'ai un paramètre instable, là, j'ai deux. Et je peux être sure que je ne peux pas contrôler l'épaisseur de dépôt.

    Avez vous des conseils dans ce cas? Quel paramètre est important?

    Merci beaucoup!

    -----

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  4. #2
    LPFR

    Re : Dépôt de film mince sous UHV

    Bonjour et bienvenue au forum.
    Quel est le principe de l’évaporateur ?
    Chauffage d’un barreau par bombardement électronique ?
    À quoi correspondent vos valeurs de
    I=1,93 A
    U=1000V
    Emission = 12 mA
    Flux = 16 nA
    C’est un flux de quoi ? Comment est-il mesuré ?
    Si c’est un modèle industriel, pouvez-vous nous donner la référence ?
    Au revoir.

  5. #3
    lnmcbmn

    Re : Dépôt de film mince sous UHV

    Bonjour,

    Oui, notre système est chauffage du barreau EFM 3 (http://www.omicron.de/en/products/ef...rument-concept)
    J'ai basé sur les paramètres affichés sur notre système
    Images attachées Images attachées  

  6. #4
    RevaMD

    Re : Dépôt de film mince sous UHV

    Je dis sans doute une enorme betise, mais j'aurais tendance à penser que les 1.92A sont le courant pour chauffer la barre et donc agir sur son émission.

  7. A voir en vidéo sur Futura
  8. #5
    lnmcbmn

    Re : Dépôt de film mince sous UHV

    Non, c'est correct. Je rajoute l'énergie (courant et tension) pour chauffer le barreau. L'émission et flux bouge en même temps en fonctionne d'énergie. Mais je peux contrôler un des deux car on a le niveau du barreau (régler manuellement) donc on peut fixer soit le flux, soit l'émission!

  9. #6
    LPFR

    Re : Dépôt de film mince sous UHV

    Bonjour.
    Désolé, mais je ne sais pas ce que signifient les différentes valeurs mesurées.
    Je crois deviner que les 0,11 A sont le courant du filament, et « EMIS » est le courant émis par el filament. Le « VOLT » est la tension accélération.
    Mais TMP est la température de quoi ? De la cible bombardée ?
    Et le flux c’est quoi ? Comme cela est possible qu’il y ait du flux, alors que EMIS est zéro et que TMP est 18°C ?

    Vous avez une « boite noire » mais si vous ne savez pas à quoi correspondent les grandeurs affichées elle ne vous sert à rien.
    Avez-vous cherché dans la notice ?
    Au revoir.

  10. Publicité
  11. #7
    lnmcbmn

    Re : Dépôt de film mince sous UHV

    C'est la valeur quand on ne travaille pas, à température ambiante
    J'ai précisé les conditions de dépôt dans le premier message.
    Fil: courant rajouté Volt: Tension rajouté (pour chauffer le barreau)
    Emission et flux: valeur du faisceau d'électron (ça dépend de l'énergie qu'on chauffe le barreau)
    Température (du source d'électron): on a le système de refroidissement pour maintenir la température inférieur à 30°C

  12. #8
    LPFR

    Re : Dépôt de film mince sous UHV

    Citation Envoyé par lnmcbmn Voir le message
    C'est la valeur quand on ne travaille pas, à température ambiante
    J'ai précisé les conditions de dépôt dans le premier message.
    Fil: courant rajouté Volt: Tension rajouté (pour chauffer le barreau)
    Emission et flux: valeur du faisceau d'électron (ça dépend de l'énergie qu'on chauffe le barreau)
    Température (du source d'électron): on a le système de refroidissement pour maintenir la température inférieur à 30°C
    Re.
    Je vois que vous ne comprenez pas comment fonctionne le système.
    Je ne peux rien pour vous.
    A+

  13. #9
    RevaMD

    Re : Dépôt de film mince sous UHV

    Je dirai que on augmente la vapeur de metal en le chauffant et que le flux depent de la tension (1000V) vers votre cible qui doit etre relié à la masse et au plus pres de votre source de metal vaporisé.

    Si vous definnisez un flux constant, la haute tension devrait varier car le nuage de vapeur est dirigé vers votre piece à plaquer et que ce meme nuage de vapeur doit etre conducteur, en tout cas plus que le vide. La consigne est le courant d'emission ou sa tension pour definir la vitesse du depot?

    Interessant comme sujet, merci de nous aider à mieux comprendre votre machine
    Dernière modification par RevaMD ; 06/03/2015 à 11h39.

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