Question sur les générateurs RF

[invite8f888d91]

Bonjour,
dans un ouvrage en anglais, j'ai vu les expressions "capacitively coupled RF plasma sources" et "inductively coupled RF plasma sources".
1) Quelle traduction proposeriez-vous pour ces expressions ? Quelque chose comme "sources plasma par RF couplé de manière capacitive (resp. inductive)" me paraît lourd, voire inexact.
2) Quelles sont les différences entre le ces deux types de montage ?
Merci de votre aide
Cordialement
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[gienas]

Bonsoir Ericswing et tout le groupe

... les expressions "capacitively coupled RF plasma sources" et "inductively coupled RF plasma sources" ...

Sans connaître le contexte, et la signification exacte des "fameuses" sources plasma, il est difficile de proposer une traduction fidèle. Je vois qu'on ne se bouscule pas au portillon.

J'ai "envie" de remplacer capacitive par capacitif: couplage capacitif, signifiant qu'un simple condensateur de liaison est utilisé.

Pour l'inductif, je soupçonne qu'il s'agit d'un couplage par transformateur, peut-être adaptateur. J'ai du mal à imaginer, par "symétrie" simple avec un condensateur, un couplage par une simple inductance. D'où l'idée du transfo.

Mais, par prudence, il me semble qu'il faudrait en savoir plus, voire avoir un schéma de cette partie couplage.

[invite8f888d91]

Il y a de bonnes infos ici
http://en.wikipedia.org/wiki/Capacit...coupled_plasma
http://en.wikipedia.org/wiki/Inductively_coupled_plasma
Sur une publication, j'ai vu l'expression "plasma à couplage inductif" pour traduire "inductively coupled plasma". Sur le net, j'ai trouvé l'expression "plasma RF à couplage capacitif" (et en tapant ça dans un moteur de recherche, on a des infos en français)

Je crois que j'ai mes réponses.

Merci