Dépôt de film de carbone par pulvérisation cathodique magnétron
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Dépôt de film de carbone par pulvérisation cathodique magnétron



  1. #1
    legyptien

    Dépôt de film de carbone par pulvérisation cathodique magnétron


    ------

    Bonjour,

    J'ai trouvé un sujet annexe sur Futura mais il date de 2006.

    Je connais pas grand chose sur le sujet mais je suis en charge d’étudier les différentes méthodes de "placage" en vue de métalliser (shielding pour prévenir les EMI) un capot plastique d'un équipement (RF/optique, hybride donc) qui est destiné a être en extérieur.

    Je tombe sur cette these et je vais a la page 120 pour me cultiver sur le sujet.

    Je tombe sur une formule:

    R= (Mi*Mt)/(2*(Mi+Mt)) ou je cite : "dépend du rapport R de masses respectives Mi (masse de l’ion incident) et Mt (masse du matériau de la cible) suivant ".

    Sauf si j'ai mal compris R doit être sans dimension. Du coup je suis surpris par la formule ( a moins que ce soit pas un produit au numérateur).

    Une explication svp ?

    Merci bien

    -----

  2. #2
    Sethy

    Re : Dépôt de film de carbone par pulvérisation cathodique magnétron

    J'ai cherché dans le document. Rien à la page 120. J'ai même fait une recherche sur "Mt" et je ne trouve que des Mtorr.
    Tout est toujours plus complexe qu'on (que je) ne le pense de prime abord.

  3. #3
    legyptien

    Re : Dépôt de film de carbone par pulvérisation cathodique magnétron

    Citation Envoyé par Sethy Voir le message
    J'ai cherché dans le document. Rien à la page 120. J'ai même fait une recherche sur "Mt" et je ne trouve que des Mtorr.
    Merci de ta reponse. On est bien d'accord qu'il faut télécharger le document avec le lien en haut a droite ?

    Chapitre 3, equation 3.7

    https://www.researchgate.net/profile...nosystemes.pdf

  4. #4
    Sethy

    Re : Dépôt de film de carbone par pulvérisation cathodique magnétron

    C'est compliqué car il n'y a pas de référence, ni d'utilisation par la suite, donc difficile de se prononcer. Et le plus probable est que la formule soit juste.

    Mais si on s'en tient à la définition, "(...) dépend du rapport R de masses respectives Mi (masse de l’ion incident) et Mt (masse du matériau de la cible) suivant (...)" et qu'on veut vraiment un rapport sans dimensions alors une équation du type

    "R = 2.Mi / (Mi+Mt)"

    pourrait convenir.
    Dernière modification par Sethy ; 15/09/2021 à 17h04.
    Tout est toujours plus complexe qu'on (que je) ne le pense de prime abord.

  5. A voir en vidéo sur Futura
  6. #5
    legyptien

    Re : Dépôt de film de carbone par pulvérisation cathodique magnétron

    Citation Envoyé par Sethy Voir le message
    et qu'on veut vraiment un rapport sans dimensions alors une équation du type
    Vu le paragraphe juste avant la formule, je vois mal comment R pourrait avoir une dimension...

    En tout cas merci de ta réponse.

  7. #6
    Sethy

    Re : Dépôt de film de carbone par pulvérisation cathodique magnétron

    Citation Envoyé par legyptien Voir le message
    Vu le paragraphe juste avant la formule, je vois mal comment R pourrait avoir une dimension...

    En tout cas merci de ta réponse.
    Attention parce que dans ce genre de domaine, à la frontière entre sciences et techniques, les choses ne sont plus forcément noires ou blanches.

    Si tu voyais comment les ingénieurs chimistes déterminent le nombre de plateaux nécessaires à une colonne de distillation, tu serais surpris.
    Tout est toujours plus complexe qu'on (que je) ne le pense de prime abord.

  8. #7
    coussin

    Re : Dépôt de film de carbone par pulvérisation cathodique magnétron

    C'est l'expression d'une masse réduite, à peu de choses près...
    La masse réduite de 2 masses m1 et m2 est m1*m2/(m1+ m2). C'est une moyenne harmonique.

  9. #8
    legyptien

    Re : Dépôt de film de carbone par pulvérisation cathodique magnétron

    ok merci a vous. Peut etre une masse 1 pondérée par un coef dépendant de la masse 2 ou inversement...

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