Bonjour à tous,
Je travaille dans une entreprise qui fabrique des cellules solaires.
Ma question concerne la dangerosité du mélange : Silane SiH4 avec du protoxyde d'azote N2O.
En résumé voici le process que nous voulons réaliser et qui existe déjà :
Nous disposons d'un équipement appelé PECVD (plasma enhanced chemical vapor deposition)
qui a pour objectif de déposer une couche mince à la surface d'une cellule solaire.
Les 2 gaz y sont injectés, on apporte une energie suffisante pour qu'il se crée un plasma (un mélange gazeux). On applique ensuite un champ électromagnétique et se mélange vient se déposer sur la cellule solaire, il se forme alors une couche mince.
Le procédé standard utilse le mélange NH3 + SiH4 qui est déjà très bien établi.
Un autre procédé utilise du N2O à la place du NH3.
J'aimerais savoir si vous connaitriez des risques liés à ce mélange de gaz ?
Merci d'avance,
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