Bonjour à tous et à toutes,
Je travaille actuellement sur une machine de traitement de surface par plasma. Mon objectif est de comprendre comment celle-ci fonctionne car c'est un nouveau moyen de production, et je dois rédiger un rapport qui apportera toutes les bases nécessaires à la compréhension globale du système.
Le gaz utilisé est du C3F6 (Hexafluoropropylène). Le traitement que l'on applique vise à rendre une surface hydrophobe par dépôt d'une couche mince de particules de fluor (10nm). Ma question porte sur une notion qui m'est encore inconnue et pour laquelle j'ai beaucoup de mal à trouver des informations. Les électrodes servant à la ionisation du gaz sont alimentées par un générateur RF calibré à 13,56MHz. En aval de ce boitier il y a un boitier AT-3 de marque SEREN appelé boitier d'impédance. J'ai cru comprendre qu'il y a une notion d'impédance dans la formation et l'entretien du plasma mais je ne sais pas réellement à quoi cela correspond.
La compréhension de cette notion pourrait m'aider d'une part à mieux comprendre le principe du traitement plasma et d'autre part à mieux définir le rôle des éléments électroniques mis en place.
J'ai posté dans cette rubrique car je cherche bien à comprendre ce que représente l'impédance du plasma et comment cela se caractérise physiquement (si c'est le cas) en son sein. Peux-t-on par ailleurs définir le dimensionnement des équipements via cette information ? (énergie à apporter, puissance des éléments...)
Si vous avez des informations ou des liens à ce sujet, je suis preneur.
Merci d'avance !
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